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PVD薄膜沉積磁控濺射鍍膜靶材介紹及應用概念及原理:        濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開...

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脈沖激光沉積(PLD)簡介脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,簡稱PLD),是一種利用激光對靶材進行轟擊,將轟擊出來的等離子體沉積在襯底上,進行薄膜生長的技術。原理在靶材表面,在足夠高的能量密度下和足夠短的脈沖時間...

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膜層常見不良與分析問題主要表現原因分析與改善建議脫膜點狀/片狀膜層脫落雜質附著加強清洗清洗殘留加強烘烤真空室臟環境管控(清潔干燥)臟污、油斑、灰點、口水點對于多層膜系,底層須與基材匹配(吸附力、硬度、熱膨脹)膜層局部附著不良裂紋/暴膜網狀裂...

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鍍膜濺射靶材的工作原理  靶材因其成分、形狀和應用領域不同, 可以采用不同的分類方法。分類標準產品類別按形狀分類長...

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20 世紀90 年代以來靶材已蓬勃發展成為一個專業化產業,中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場份額。大...

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第一:靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應氣體粒...

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