PVD薄膜沉積磁控濺射鍍膜靶材介紹及應用概念及原理: 濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開...
脈沖激光沉積(PLD)簡介脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,簡稱PLD),是一種利用激光對靶材進行轟擊,將轟擊出來的等離子體沉積在襯底上,進行薄膜生長的技術。原理在靶材表面,在足夠高的能量密度下和足夠短的脈沖時間...
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